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霧消除和污染物去除裝置和方法

發(fā)明專利有效專利
  • 申請(qǐng)?zhí)枺?/span>
    CN201710859757.X
  • IPC分類號(hào)：B01D53/04;B01D53/64;B01D53/26;B01D47/06
  • 申請(qǐng)日期：
    2014-02-26
  • 申請(qǐng)人：
    W.L.戈?duì)柤巴使煞萦邢薰?/div>
著錄項(xiàng)信息
專利名稱霧消除和污染物去除裝置和方法
申請(qǐng)?zhí)?/td>CN201710859757.X申請(qǐng)日期2014-02-26
法律狀態(tài)授權(quán)申報(bào)國(guó)家暫無(wú)
公開(kāi)/公告日2017-12-29公開(kāi)/公告號(hào)CN107519731A
優(yōu)先權(quán)暫無(wú)優(yōu)先權(quán)號(hào)暫無(wú)
主分類號(hào)B01D53/04IPC分類號(hào)B;0;1;D;5;3;/;0;4;;;B;0;1;D;5;3;/;6;4;;;B;0;1;D;5;3;/;2;6;;;B;0;1;D;4;7;/;0;6查看分類表>
申請(qǐng)人W.L.戈?duì)柤巴使煞萦邢薰?/a>申請(qǐng)人地址
美國(guó)特拉華州 變更 專利地址、主體等相關(guān)變化，請(qǐng)及時(shí)變更，防止失效
權(quán)利人W.L.戈?duì)柤巴使煞萦邢薰?/td>當(dāng)前權(quán)利人W.L.戈?duì)柤巴使煞萦邢薰?/span>
發(fā)明人S·K·施塔克;W·S·普恩;R·E·格伯特;J·A·克爾德
代理機(jī)構(gòu)上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司代理人江漪
摘要
一種用于從氣流去除含液體小滴和污染物的集成裝置包括多個(gè)通路和多個(gè)暴露的表面部分，這些表面部分中的不同部分沿著多個(gè)通路中的不同通路安置。多個(gè)通路包括用于使氣流流動(dòng)通過(guò)的入口和出口，其中每個(gè)通路包括至少一個(gè)區(qū)段，至少一個(gè)區(qū)段被配置成擾動(dòng)在入口與出口之間的氣流的至少一部分的流動(dòng)。這種氣體擾動(dòng)促進(jìn)了氣流與暴露表面的接觸。暴露表面的部分包括吸附劑?聚合物?復(fù)合材料，吸附劑?聚合物?復(fù)合材料適于吸附元素和氧化汞蒸氣。暴露的表面安置成加強(qiáng)含液體小滴與元素和氧化汞蒸氣的去除。

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