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*來源于國家知識產(chǎn)權局數(shù)據(jù)，僅供參考，實際以國家知識產(chǎn)權局展示為準

一種拋光設備

實用新型專利有效專利
  • 申請?zhí)枺?/span>
    CN201922499457.2
  • IPC分類號：B24B27/00;B24B29/02;B24B41/06;B24B53/007;B24B41/00
  • 申請日期：
    2019-12-31
  • 申請人：
    浙江芯暉裝備技術有限公司
著錄項信息
專利名稱一種拋光設備
申請?zhí)?/td>CN201922499457.2申請日期2019-12-31
法律狀態(tài)授權申報國家中國
公開/公告日公開/公告號
優(yōu)先權暫無優(yōu)先權號暫無
主分類號B24B27/00IPC分類號B;2;4;B;2;7;/;0;0;;;B;2;4;B;2;9;/;0;2;;;B;2;4;B;4;1;/;0;6;;;B;2;4;B;5;3;/;0;0;7;;;B;2;4;B;4;1;/;0;0查看分類表>
申請人浙江芯暉裝備技術有限公司申請人地址
浙江省嘉興市海寧市海寧經(jīng)濟開發(fā)區(qū)隆興路118號內主辦公樓3樓370室 變更 專利地址、主體等相關變化，請及時變更，防止失效
權利人浙江芯暉裝備技術有限公司當前權利人浙江芯暉裝備技術有限公司
發(fā)明人楊兆明;顏凱;川嶋勇
代理機構北京品源專利代理有限公司代理人胡彬
摘要
本實用新型涉及拋光技術領域，公開了一種拋光設備，包括拋光工位和第一轉接工位，拋光工位包括第一上下料區(qū)、第一拋光區(qū)、第二上下料區(qū)和第二拋光區(qū)，拋光工位上設置有轉盤、拋光盤、拋光頭和拋光盤清洗機構，兩個拋光頭分別設置在第一拋光區(qū)和第二拋光區(qū)處，兩個拋光盤清洗機構分別設置在第一上下料區(qū)和第二上下料區(qū)，轉盤上設置有四個拋光盤，轉盤能夠轉動以使其上的拋光盤交替與拋光頭和拋光盤清洗機構相對設置。第一轉接工位上設置有翻轉機構，可選擇地對硅片進行翻轉。該拋光設備能夠實現(xiàn)硅片的雙面拋光以及硅片單面的粗拋和精拋，其適用性好；通過合理布局各工序設備之間的位置，能夠提高作業(yè)效率。

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