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權(quán)利要求
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專利名稱 | 帶抗氧化插入件的煤氣化進料噴射器擋板 |
申請?zhí)?/td> | CN03814291.0 | 申請日期 | 2003-04-16 |
法律狀態(tài) | 權(quán)利終止 | 申報國家 | 中國 |
公開/公告日 | 2005-08-31 | 公開/公告號 | CN1662633 |
優(yōu)先權(quán) | 暫無 | 優(yōu)先權(quán)號 | 暫無 |
主分類號 | C10J3/50 | IPC分類號 | C;1;0;J;3;/;5;0;;;F;2;3;D;1;/;0;0查看分類表>
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申請人 | 伊斯曼化學公司 | 申請人地址 | 美國田納西州
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權(quán)利人 | 伊士曼化工公司 | 當前權(quán)利人 | 伊士曼化工公司 |
發(fā)明人 | G·S·惠特克;J·W·亞當斯 |
代理機構(gòu) | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 廖凌玲;楊松齡 |
摘要
本發(fā)明公開了一種具有抗氧化插入件的煤氣化進料噴射器,該抗氧化插入件可以防止擋板發(fā)生氧化腐蝕,以及隨后引起的對進料噴射器下表面的損壞。進料噴射器的使用壽命得到延長,且因此單個氣化爐的爐齡也由此得到延長。
1、一種用于將流體燃料和氧化材料噴射至高溫燃燒室中的進料噴 射器,該進料噴射器包括:
噴射器噴嘴,限定了軸孔開口,并包括至少兩個同心的噴嘴外殼和 一個外部冷卻套管,該外部冷卻套管限定出大體呈平坦環(huán)狀的端面和環(huán) 形噴嘴唇部;
至少一個從端面延伸出的帶螺紋的凸出部;
大體平坦的擋熱板,具有上表面和下表面以及內(nèi)表面,該內(nèi)表面限 定出中心孔;
環(huán)形帶螺紋的溝槽,設(shè)置在擋熱板的上表面上,以適于旋轉(zhuǎn)容納至 少一個帶螺紋的凸出部,由此將擋熱板固定在噴射器噴嘴的端面上;以 及環(huán)形的抗氧化插入件,同心設(shè)置在噴嘴唇部上,位于噴嘴唇部與擋 熱板內(nèi)表面之間,
其中抗氧化插入件被擋熱板的內(nèi)表面保持在噴嘴唇部上適當?shù)奈恢?處。
2、如權(quán)利要求1所述的進料噴射器,其中所述抗氧化插入件包括 可進行機加工的陶瓷。
3、如權(quán)利要求1所述的進料噴射器,其中所述帶螺紋的凸出部包 含帶有內(nèi)表面和外表面的環(huán),內(nèi)表面和外表面中的至少一個帶有螺紋。
4、如權(quán)利要求1所述的進料噴射器,其中至少一個帶螺紋的凸出 部包括多個帶螺紋的凸出部。
5、如權(quán)利要求1所述的進料噴射器,其中擋熱板包含具有高導熱 系數(shù)的材料。
6、如權(quán)利要求4所述的進料噴射器,其中具有高導熱系數(shù)的材料 為從由氮化硅、碳化硅、氧化鋯基陶瓷、鉬、鎢和鉭組成的組中選擇的 至少一種。
7、如權(quán)利要求1所述的進料噴射器,進一步包括:
從噴射器噴嘴端面延伸出的環(huán)形隔板,其相對于軸孔開口位于至少 一個帶螺紋的凸出部的內(nèi)側(cè);以及
設(shè)置在擋熱板上表面上的環(huán)形凹槽,以適于容納環(huán)形隔板。
技術(shù)領(lǐng)域\n本發(fā)明主要涉及一種在用于生產(chǎn)合成氣的煤氣化設(shè)備中所使用的改 進的進料噴射器,或者噴槍。更具體的,本發(fā)明涉及一種具有擋板的進 料噴射器,該擋板帶有抗氧化腐蝕的插入件,由此延長進料噴射器的使 用壽命。\n背景技術(shù)\n主要包括一氧化碳和氫氣的合成氣混合物,作為氫化反應(yīng)中氫氣的 來源,烴、含氧有機化合物和氨合成中的原料氣,都具有很重要的商業(yè) 價值。一種制備合成氣的方法是通過煤的氣化,其涉及將含硫的烴燃料 與富氧氣體一起進行不完全燃燒。在熔渣型氣化爐中,煤—水漿料和氧 氣被用作燃料。這兩種氣流,通過插在帶有耐火材料襯里的反應(yīng)室頂部 的進料噴射器,有時也叫噴槍,注入氣化爐中。進料噴射器使用兩束同 軸的氧氣流和一束煤漿流,其通過經(jīng)水冷卻的頭部注入反應(yīng)室。反應(yīng)室 的操作壓力遠高于噴射器水套的壓力。\n在這個過程中,反應(yīng)組分在足夠大的壓力比如大約80巴(8000KPa) 下噴入到合成氣燃燒室中。在燃燒室中,在溫度在大約700攝氏度到大 約2500攝氏度的范圍,并且壓力在大約1到大約300個大氣壓下,更 優(yōu)選的是在大約10到大約100個大氣壓下產(chǎn)生熱氣流。從氣體發(fā)生器 中流出的原料廢氣流典型地包括氫、一氧化碳和二氧化碳,另外還可以 含有甲烷、硫化氫和氮氣,這取決于燃料源和反應(yīng)條件。\n含硫的烴燃料與富氧氣體的不完全燃燒,給噴槍工藝技術(shù)帶來了問 題。例如使反應(yīng)物實現(xiàn)非??焖?、完全的混合,以及采取特別的措施防 止噴槍或混合器過熱,是必要的。因為煤中含有的氧和硫雜質(zhì)具易與構(gòu) 成噴槍的金屬發(fā)生反應(yīng)的趨勢,所以防止噴槍部件達到發(fā)生快速氧化和 腐蝕的溫度是必要的。因此烴與氧的反應(yīng)完全發(fā)生在噴槍以外適當位置 是必要的,并且防止在噴槍部件表面或附近產(chǎn)生易燃混合物的局部濃度 富集。\n即使反應(yīng)發(fā)生在噴槍噴射點之外的位置,噴槍部件容易受到燃燒區(qū) 域的熱輻射,以及燃燒氣體的湍流再循環(huán)影響。由于這些以及其他原因, 即使用水冷卻這些部件,并且反應(yīng)物是預(yù)先混合且其從噴槍噴出的速度 超過火焰?zhèn)鞑サ乃俣?,噴槍還是容易由于噴槍噴嘴周圍的金屬腐蝕而損 壞。典型的,短時間操作之后,在朝向反應(yīng)室的套管上產(chǎn)生熱腐蝕疲勞 裂紋。最后,這些裂縫穿透套管使工藝氣體泄漏到冷卻水中。當泄漏發(fā) 生,氣化器操作必須停止以更換進料噴射器。\n在過去曾進行了多種嘗試以使發(fā)生腐蝕最少,取得了不同程度的成 功。比如,US?5,273,212披露了一種保護噴槍的覆蓋層,由單個瓷瓦、 或者薄片相互鄰接著排列,從而以拼接的方式覆蓋噴槍。\nUS?5,934,206和US6,152,052描述了通過釬焊附接在進料噴射器的 表面上的多種擋板片。這些擋板片通常是瓷瓦,當然,也可以使用其他 高熔點的材料。每一塊瓷瓦構(gòu)成環(huán)繞噴嘴的瓷瓦的角形小片,瓷瓦在徑 向接縫上疊置形成臺階形、或者斜面形的搭接。每一個瓷瓦通過高溫釬 焊化合物固定在冷卻套管的端面上。\nUS?5954491描述了一種用于噴槍噴嘴的線鎖防護面。在該專利中, 通過將高溫合金導線穿過擋板和一系列互鎖的調(diào)整片而將單片陶瓷擋熱 板接附到進料噴射器上。擋板由此被機械固定在噴射器噴嘴的水套管端 面上,并且形成為圍繞噴嘴口的整體環(huán)或者環(huán)帶。\nUS?5947716描述了一種用于噴槍噴嘴的閂鎖熱防護面板。擋熱板由 一個內(nèi)環(huán)和一個外環(huán)組成,兩者圍繞噴嘴軸線形成完整的環(huán)帶,只防護 整個水套管面板的徑向部分。內(nèi)環(huán)通過與突出于噴嘴唇板外圓錐表面的 肋相嚙合機械固定在金屬噴嘴構(gòu)件上。在內(nèi)環(huán)內(nèi)周上形成具有與設(shè)置的 肋數(shù)目相同的切口的溝槽,由此容納相應(yīng)的外部肋部件。當進行組裝時, 通過一個施加在噴嘴冷卻套管面板,位于內(nèi)環(huán)外周的凹槽內(nèi)的點焊金屬 桿,使內(nèi)環(huán)不致旋轉(zhuǎn)。\n內(nèi)環(huán)的外周形成有大致為整個環(huán)厚度一半的臺階凸緣,或者卷邊, 與在外環(huán)內(nèi)周上相應(yīng)的臺階凸緣相重疊。所述外環(huán)還通過一系列從水套 管面外周凸出的外肋部件,固定在水套管面上。環(huán)繞外環(huán)圓周的套支架 提供了結(jié)構(gòu)溝槽以容納外部一系列水套管肋。外部熱防護環(huán)也通過臨時 點焊桿或棒被保持在適當位置。\nUS?5941459描述了一種燃料噴射器噴嘴,其具有與在鄰近噴嘴出口 的下游端的噴嘴互鎖的環(huán)形難熔插入件。在燃料噴射器噴嘴的下游端形 成凹進部以容納該環(huán)形難熔插入件。\nUS?6010330描述了一種具有流線型唇板突起的噴槍噴嘴,對噴槍面 板形狀進行了改進,以改變在面板附近的工藝氣體的流動。這一改進提 高了進料噴射器的使用壽命。再循環(huán)氣流從噴嘴面板到反應(yīng)物質(zhì)注入柱 的平緩過渡被認為促進了冷卻氣體形成靜態(tài)的、或是分層的流動邊界 層,在一定程度上將噴嘴面板與燃燒反應(yīng)產(chǎn)生的熱輻射隔絕。\nUS?6284324描述了一種能被應(yīng)用到前述擋板上的涂層,由此可以減 輕擋板材料的高溫熱腐蝕。\n本申請參見引用美國專利US?6358041公開的內(nèi)容,其描述了一種 用于噴槍噴嘴面板的帶螺紋的擋板。通過一個與在擋板背面機加工設(shè)置 的螺紋凹進部相接合的帶螺紋的凸出部,該擋熱板被附接在進料噴射器 上。該帶螺紋的凸出部可以是連續(xù)構(gòu)件,也可以是多個以一定距離隔開 的構(gòu)件,每一個構(gòu)件都具有至少一個弧形表面。這一螺紋附接方法是一 種可靠的將擋板連接到進料噴射器上的方式。它提供了高強度,并且比 其它擋板附件更容易制造。尤其是當擋板由易于進行機加工的金屬制成 時更是如此。\n雖然上述擋板對現(xiàn)有技術(shù)做出了很大的改進,可以延長操作時間, 但是其使用壽命仍受到發(fā)生在擋板中心位置的腐蝕的限制。使用這種螺 紋附接方法的操作經(jīng)驗已經(jīng)揭示,局部高氧活性區(qū)引起了鉬擋板的腐 蝕。這個局部高氧活性區(qū)由氧氣流從進料噴射器噴出時產(chǎn)生的氣流動力 形成。在噴射器面板邊緣外側(cè)附近存在一個低壓區(qū)。這個低壓區(qū)吸引氧 氣,引起鉬擋板的腐蝕。\n盡管鉬在還原氣氛中具有極好的耐腐蝕性能,但是它不耐高溫氧 化。當擋板發(fā)生腐蝕時,由它提供的對噴射器面板的防護也就逐漸消失, 由此縮短了噴射器的使用壽命。當發(fā)生這一情況時,擋板的背面以及噴 射器的面板都會發(fā)生腐蝕。在凸出于噴射器面板的螺紋附接環(huán)的基座上 發(fā)生的腐蝕尤其嚴重。在極端的例子中,腐蝕引起了螺紋環(huán)失效而從擋 板上脫離下來。\n盡管在進料噴射器的面板上增加涂覆有鉬的擋板,可以使進料噴射 器的最大運行時間加倍,但是,所述運行時間仍然受到在擋板中心附近 發(fā)生的氧化的限制,導致噴射器面板發(fā)生腐蝕和破裂。當擋板的狀況進 一步惡化,更多的腐蝕物質(zhì)在擋板與噴射器面板之間積累。這導致了附 接環(huán)失效,最終導致?lián)醢宓膿p失。\n存在以下需要,即提供一種用于生成合成氣的噴槍擋板,它可以克 服現(xiàn)有技術(shù)中存在的使用年限短的缺點,其結(jié)構(gòu)簡單,并且運行經(jīng)濟。\n因此,本發(fā)明的一個目的是進一步延長上述用于生成合成氣的噴槍 噴嘴的使用壽命。\n本發(fā)明的另一個目的是提供用于具有低腐蝕速率的用于生成合成氣 的氣體發(fā)生噴槍噴嘴。\n進一步的目的是提供一種噴槍噴嘴擋熱板,以保護噴嘴的金屬部件 不受由燃燒氣體引起的腐蝕的影響。\n另一個目的是提供一種陶瓷插入件,其在將鉬從氧化區(qū)除去后,對 氧氣具有特別的防護作用,由此保護將擋板附接到噴射器上的螺紋不受 燃燒氣體所引起的腐蝕的影響。\n發(fā)明內(nèi)容\n通過本發(fā)明實現(xiàn)所述這些和其他目的,本發(fā)明涉及一種噴嘴,其具 有帶螺紋的擋熱板,在擋熱板最易于發(fā)生腐蝕的那部分的適當位置處設(shè) 有抗氧化材料。該抗氧化插入件優(yōu)選與擋板分開,呈圓錐形,并且通過 擋板自身被保持在適當位置。該插入件占據(jù)氧化區(qū)并防止擋板腐蝕,由 此進一步延長噴槍的壽命。\n本發(fā)明通過除去擋板上的圓錐形部分以增加擋板中心孔的直徑來實 現(xiàn)。但是擋板的基本形狀以及尺寸并沒有改變??寡趸牧?,通常如陶 瓷,為圓錐形狀,并被設(shè)置在進料噴射器面板的唇部之上。然后,采用 常規(guī)手段將擋板擰緊固定在噴射器面板上,使插入件保持在適當位置。 這種設(shè)計在插入件、噴射器面板和擋板之間提供少量的空隙,以防止易 碎的陶瓷開裂。當以這種方式進行組裝時,插入件占據(jù)氧化區(qū),而鉬僅 僅受到還原條件的影響,由此防止擋板以及由插入件覆蓋的噴射器面板 的腐蝕。\n附圖說明\n圖1為合成氣體發(fā)生器燃燒室以及噴槍的局部截面圖;\n圖2為在噴槍噴嘴面板處燃燒室氣體動力學的示意圖;\n圖3為根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選實施例的合成氣體噴槍噴嘴結(jié)構(gòu)的局部截面 圖;\n圖3A為沿圖3中軸線3A的部分的分解截面放大圖;和\n圖3B為用以清楚的標記根據(jù)本發(fā)明的其他特征的圖3A的另一幅 分解截面放大圖。\n具體實施方式\n現(xiàn)在參見圖1,圖中示出了合成氣發(fā)生器容器10的局部剖視圖。容 器10包括結(jié)構(gòu)外殼12以及圍繞封閉燃燒室16的內(nèi)部耐火材料襯里14。 從外殼壁向外凸出的是在反應(yīng)容器內(nèi)支承細長的燃料噴射器噴槍組件20 的噴槍安裝頸部18。噴槍組件20是對齊并進行定位,以使噴槍面板22 與耐火材料襯里14的內(nèi)表面大致齊平。噴槍安裝凸緣24將噴槍組件20 固定在容器10的安裝頸部凸緣19上,以防止噴槍組件20在操作期間 射出。\n盡管不希望受任何理論的束縛,據(jù)信圖1和圖2表示出燃燒室內(nèi)一 部分內(nèi)部氣體的循環(huán)模式。如箭頭26所示的氣流方向受到燃燒室內(nèi)的 高溫和燃燒條件的驅(qū)動。根據(jù)燃料以及引發(fā)的反應(yīng)速率,沿著反應(yīng)器芯 部28的溫度可以達到2500℃。當反應(yīng)氣體向著合成氣體發(fā)生室16的 端部冷卻時,大部分氣體被吸入一個與美國專利US?2809104中記載的 合成氣體生產(chǎn)方法中用到的急冷室相類似的急冷室中,該專利在此作為 參考被引用。但是,一小部分氣體從芯部28沿徑向擴散以在反應(yīng)室的 圍壁處冷卻。再循環(huán)氣體層被向上推至反應(yīng)室的上部中心位置,在那里 被吸入燃燒柱湍流的下降氣流中。對于圖2所示的模式,在再循環(huán)氣體 與高速芯部28的匯合處,會產(chǎn)生環(huán)形渦流27,其會強烈地洗刷噴槍端 面22,由此增加了噴槍頭部端面材料與燃燒產(chǎn)物再循環(huán)氣流中所攜帶的 高反應(yīng)性、腐蝕性化合物之間發(fā)生化學反應(yīng)的可能性。\n參見圖1和圖3所示,噴槍組件20包括噴射器噴嘴組件30,噴射 器噴嘴組件30包括三個同心的噴嘴外殼以及外部冷卻水套管60。內(nèi)噴 嘴外殼32噴出從軸孔開口33沿著上組件軸線導管42進行傳送的氧化 氣體。中間噴嘴外殼34引導被傳送到上部件入口44的煤漿進入燃燒室 16中。作為流體化的固體,煤漿從由內(nèi)噴嘴外殼壁32和中間噴嘴外殼 壁34限定的環(huán)形空間36擠出。外噴嘴外殼,也就是氧化氣體噴嘴外殼 46環(huán)繞著外噴嘴噴射環(huán)形隙縫48。上組件進口45向外噴嘴噴射環(huán)形隙 縫48提供附加的氧化氣流。\n中心翼片50和52分別從內(nèi)部和中間噴嘴外殼壁32和34的外表面 橫向延伸,以保持它們各自的外殼相對于噴槍組件20的縱向軸線是共 軸居中的。翼片50和52的結(jié)構(gòu)形成圍繞著內(nèi)部和中間外殼的不連續(xù)帶, 由此對各自環(huán)形空間中的流流流動的阻力很小。\n如在美國專利US?4502633中更詳細描述的,其所披露的整個內(nèi)容 在此作為參考而被引用,內(nèi)噴嘴外殼32和中間噴嘴外殼34都可以相對 于外噴嘴外殼46作軸向調(diào)整以改變流量。當中間噴嘴34軸向移動離開 外噴嘴46的錐形漸細的內(nèi)表面時,外噴射環(huán)形隙縫48被擴大以使氧氣 流量更大。相似地,當內(nèi)部噴嘴32的外錐形表面朝著中間噴嘴34的內(nèi) 錐表面軸向靠近時,限定煤漿噴射面積的環(huán)形空間36被減小。\n圍繞著外噴嘴外殼46的是具有環(huán)形端蓋62的冷卻流體套管60。冷 卻流體導管64,將冷卻劑如水,從上組件冷卻劑進口54直接傳送到端 蓋板62的內(nèi)表面。流體槽路擋板66控制圍繞外部噴嘴外殼的冷卻劑流 動的路徑,以確保充分均勻的排熱,并防止冷卻劑多路傳輸并產(chǎn)生局部 過熱點。端蓋62包括一個噴嘴唇部70,如在此作為參考而被引用的美 國專利US?6010330中描述的一樣,通常定義了一個出口孔或者排出口 以將反應(yīng)材料進料到噴射器噴槍組件20中。\n參見圖3,3A和3B,冷卻套管的平端蓋62包括環(huán)形表面72,形 成了噴射器的面板,它朝向燃燒室16設(shè)置。典型地,冷卻套管62環(huán)形 表面72包含鈷基金屬合金材料,如設(shè)計在高溫氧化和硫化環(huán)境中使用 的合金188。合金188包含能增強耐蝕性的鉻、鑭以及硅元素;以及可 以提高高溫強度的鎢元素。其他的鈷基合金如合金25或者合金556也 可以有利地使用。這種合金存在的一個問題是:當使用高硫含量煤時, 煤中存在的硫化合物易與鈷基金屬合金材料發(fā)生反應(yīng),導致腐蝕。會持 續(xù)發(fā)生自消耗腐蝕,最終導致噴槍組件20的失效。盡管鈷是噴嘴組件30 的優(yōu)選結(jié)構(gòu)材料,但是其他高熔點合金,比如鉬或鉭的合金也可以使用。\n凸出于環(huán)形表面72的是帶螺紋的凸出部74用以將擋熱板76安裝 在噴槍噴射器噴嘴組件30上。擋熱板可以為包括陶瓷、金屬陶瓷和難 熔金屬如鉬、鉭或鈮這些適合用于還原性氣化環(huán)境中的高溫材料中的任 何一種。所述擋熱板76通常包括鉬。\n帶螺紋的凸出部74與環(huán)形表面72可以是整體的,比如帶螺紋的凸 出部可以從包括環(huán)形表面72的固體金屬件上機加工得到。另一種選擇 是,保持裝置可以是固定在環(huán)形表面72上的獨立構(gòu)件,其中所述凸出 部74可用本領(lǐng)域技術(shù)人員所公知的方法,比如焊接、螺栓固定、釬焊 等方式安裝到環(huán)形表面72上。從環(huán)形表面延伸出的帶螺紋的凸出部74 可以是連續(xù)構(gòu)件,比如環(huán),或者多個隔開的單個構(gòu)件,所述每一個構(gòu)件 可以是圓柱形或者月牙形的。帶螺紋的凸出部74包括內(nèi)表面78和外表 面80,其中之一或者兩者都具有螺紋。圖3B描繪了設(shè)置在帶螺紋的凸 出部74外表面80上的螺紋82。環(huán)形溝槽88設(shè)置在擋板76上表面84 上。環(huán)形溝槽88在其內(nèi)表面90或者其外表面92中的至少一個上形成 有螺紋,并適合容納帶螺紋的凸出部74。\n同樣凸出于環(huán)形表面72,并且相對于軸孔開口33處在帶螺紋的凸 出部74內(nèi)側(cè)的是與環(huán)形表面72成為整體的環(huán)形隔板94,或者隔墻。環(huán) 形隔板94被設(shè)置在擋熱板76上表面84上的環(huán)形凹槽95所容納。環(huán)形 隔板94的至少一部分97,或者也許是一個面,與在擋熱板76的上表面 84上切出的用于容納該凸出部的凹槽95的底面接觸。設(shè)置環(huán)形凸出部/ 凹槽的目的是形成腐蝕物質(zhì)通道的屏障,以此作為曲徑密封(迷宮式密 封),因此可以防止擋板帶螺紋附件發(fā)生腐蝕和失效。這一環(huán)形隔板94 作為共同申請但未審定的主題,在本申請的同一申請日提交,并已經(jīng)轉(zhuǎn) 讓給本申請的申請人。\n相對于軸孔開口33,在隔板94的內(nèi)側(cè)是根據(jù)本發(fā)明的環(huán)形、或者 錐形的抗氧化插入件96,其位置的設(shè)定可以在功能性上取代擋板最容易 因腐蝕而損失的部分。該抗氧化插入件96與擋板分離,呈圓錐形狀, 并且被擋板76保持在適當?shù)奈恢?。該插入?6通??梢杂煽蓹C加工的 抗氧化陶瓷制造。\n通過去掉擋板的一圓錐形部分以增大擋板中心孔的直徑,由此容納 抗氧化插入件96??寡趸迦爰?6一般可以是陶瓷,并且同心設(shè)置在 進料噴射器面板72上的噴嘴唇部70上方的位置。然后使用常用的方式 將擋板螺旋固定到噴射器面板72中,由此將插入件保持在適當?shù)奈恢谩?這種設(shè)計使插入件96,噴射器面板環(huán)形表面72,和擋熱板76之間存在 很少的縫隙,以防止易碎陶瓷開裂。當以這種方式進行組裝時,插入件 占據(jù)了氧化區(qū),并且擋熱板76,通常包含鉬,主要受還原性條件的影響, 由此防止擋板以及覆蓋著插入件的噴射器面板72發(fā)生腐蝕。\n擋熱板76由高熔點材料,比如氮化硅、碳化硅,氧化鋯,鉬,鎢 或者鉭組成。代表性的優(yōu)選材料包括Coors?Corp.of?Golden,Colorado 的氧化鋯TZP和氧化鋯ZDY產(chǎn)品。在特性上,這些高溫材料可以耐受 高達約1400℃的高溫,具有高的膨脹系數(shù),在高溫,高還原性/硫化環(huán) 境中仍然保持較強的鈍性。優(yōu)選的,擋熱板76含有鉬。\n擋板76可以包含高溫、耐蝕涂層98,比如在美國專利US?6284324 中記載的,本申請參考引用該篇文獻。這樣的涂層98被應(yīng)用在擋熱板76 面向燃燒室的下表面86上,具有大約0.002至大約0.020英寸(0.05毫 米至大約0.508毫米)的厚度,并且優(yōu)選為大約0.005至大約0.015英寸 (0.127至大約0.381毫米)。為了有助于涂層98在擋熱板76上的涂覆, 擋熱板76靠近噴嘴唇部70的一部分可具有從大約0.001英寸至大約0.50 英寸(0.0254毫米至大約12.7毫米)的小直徑。\n涂層98是一種具有通式為MCrAlY的合金,其中M選自鐵、鎳和 鈷。該涂層組合物可以包含大約5-40wt%Cr,0.8-35wt%Al,高達1wt% 的稀土元素釔,15-25wt%Co以及余量的包括作為一種合金成分的Ni、 Si、Ta、Hf、Pt、Rh及其混合物。優(yōu)選合金包含大約20-40wt%Co, 5-35wt%Cr,5-10wt%Ta,0.8-10wt%Al,0.5-0.8wt%Y,1-5wt%Si 和5-15wt%Al2O3。這樣的涂層可以從Praxair和其他公司獲得。\n涂層98可以采用粉末涂層領(lǐng)域普通技術(shù)人員已公知的各種方法, 涂覆在擋熱板76的下表面86上。舉例來說,涂層98可以用細粉采用 等離子體噴涂方法進行涂覆。涂覆涂層材料的優(yōu)選方法并沒有嚴格的限 制,只要得到致密的、均勻的、連續(xù)的涂層就可以。其他的涂層沉積技 術(shù)比如反應(yīng)濺射法或者電子束轟擊法都可以使用。\n通過對本發(fā)明的詳細描述,本領(lǐng)域技術(shù)人員將意識到,只要不偏離 本發(fā)明公開記載的精神和范圍,可以對本發(fā)明多個方面作出改進。因此, 不意味著本發(fā)明的范圍被限定在前面說明和描述的具體實施例的范圍 內(nèi),本發(fā)明的范圍由本申請所附的權(quán)利要求或者與它們相等同的部分所 限定。
法律信息
- 2009-06-17
專利權(quán)的終止(未繳年費專利權(quán)終止)
專利權(quán)的終止(未繳年費專利權(quán)終止)授權(quán)公告日:2007.11.21
- 2008-06-18
專利權(quán)人的姓名或者名稱、地址的變更
專利權(quán)人的姓名或者名稱、地址的變更變更事項:專利權(quán)人變更前:伊斯曼化學公司 地址: 美國田納西州變更后:伊士曼化工公司 地址: 美國田納西州
- 2007-11-21
- 2005-10-26
- 2005-08-31
引用專利(該專利引用了哪些專利)
序號 | 公開(公告)號 | 公開(公告)日 | 申請日 | 專利名稱 | 申請人 |
1
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2000-08-02
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1998-06-29
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2
| | 暫無 |
1997-04-07
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被引用專利(該專利被哪些專利引用)
序號 | 公開(公告)號 | 公開(公告)日 | 申請日 | 專利名稱 | 申請人 | 1 | | 2011-08-11 | 2011-08-11 | | |
2 | | 2011-08-11 | 2011-08-11 | | |
3 | | 2011-08-11 | 2011-08-11 | | |
4 | | 2011-08-11 | 2011-08-11 | | |