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一種基于四羧基鎳酞菁測(cè)定痕量過(guò)氧化氫的方法

發(fā)明專利有效專利
  • 申請(qǐng)?zhí)枺?/span>
    CN201911175379.9
  • IPC分類號(hào)：G01N21/51;G01N1/38
  • 申請(qǐng)日期：
    2019-11-26
  • 申請(qǐng)人：
    桂林理工大學(xué)
著錄項(xiàng)信息
專利名稱一種基于四羧基鎳酞菁測(cè)定痕量過(guò)氧化氫的方法
申請(qǐng)?zhí)?/td>CN201911175379.9申請(qǐng)日期2019-11-26
法律狀態(tài)實(shí)質(zhì)審查申報(bào)國(guó)家中國(guó)
公開(kāi)/公告日2020-03-24公開(kāi)/公告號(hào)CN110907405A
優(yōu)先權(quán)暫無(wú)優(yōu)先權(quán)號(hào)暫無(wú)
主分類號(hào)G01N21/51IPC分類號(hào)G;0;1;N;2;1;/;5;1;;;G;0;1;N;1;/;3;8查看分類表>
申請(qǐng)人桂林理工大學(xué)申請(qǐng)人地址
廣西壯族自治區(qū)桂林市建干路12號(hào) 變更 專利地址、主體等相關(guān)變化，請(qǐng)及時(shí)變更，防止失效
權(quán)利人桂林理工大學(xué)當(dāng)前權(quán)利人桂林理工大學(xué)
發(fā)明人唐寧莉;王文平;梁文匯;慕欣悅;付慧云;方業(yè)毅
代理機(jī)構(gòu)暫無(wú)代理人暫無(wú)
摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種基于四羧基鎳酞菁測(cè)定痕量過(guò)氧化氫的方法。于7支比色管中，分別加入HAc?NaAc緩沖液、NiC4Pc溶液和OPD溶液，再依次加入0.0、0.0017、0.0025、0.005、0.01、0.02、0.04mL1.97×10?5mol/LH2O2溶液，于25℃水浴中反應(yīng)15min后，再在每支管中加入納米金溶液，4分鐘后用二次蒸餾水稀釋至5mL，于熒光光度計(jì)上以λex=λem的方式掃描散射光譜。在700nm波長(zhǎng)處分別測(cè)定加有H2O2溶液的散射強(qiáng)度I700nm和不加H2O2的試劑空白的散射強(qiáng)度I0，計(jì)算散射強(qiáng)度差值ΔI700nm=I700nm?I0。本發(fā)明測(cè)定方法選擇性好、靈敏度高。

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