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等離子體放電裝置

實(shí)用新型專利有效專利
  • 申請(qǐng)?zhí)枺?/span>
    CN201220720322.X
  • IPC分類號(hào)：H05H1/46
  • 申請(qǐng)日期：
    2012-12-24
  • 申請(qǐng)人：
    中國科學(xué)院微電子研究所
著錄項(xiàng)信息
專利名稱等離子體放電裝置
申請(qǐng)?zhí)?/td>CN201220720322.X申請(qǐng)日期2012-12-24
法律狀態(tài)暫無申報(bào)國家暫無
公開/公告日公開/公告號(hào)
優(yōu)先權(quán)暫無優(yōu)先權(quán)號(hào)暫無
主分類號(hào)H05H1/46IPC分類號(hào)H;0;5;H;1;/;4;6查看分類表>
申請(qǐng)人中國科學(xué)院微電子研究所申請(qǐng)人地址
四川省成都市雙流區(qū)東升街道成都芯谷產(chǎn)業(yè)園區(qū)集中區(qū)內(nèi) 變更 專利地址、主體等相關(guān)變化，請(qǐng)及時(shí)變更，防止失效
權(quán)利人中科芯未來微電子科技成都有限公司當(dāng)前權(quán)利人中科芯未來微電子科技成都有限公司
發(fā)明人賈少霞;張宸;楊景華;王守國
代理機(jī)構(gòu)北京市德權(quán)律師事務(wù)所代理人劉麗君
摘要
本實(shí)用新型公開一種等離子體放電裝置，包括兩個(gè)射頻電極、介質(zhì)阻擋層、勻氣板、氣源、射頻電源和金屬外殼；所述射頻電源與所述射頻電極連接；放電裝置在工作時(shí)，所述金屬外殼接地；所述射頻電極被介質(zhì)阻擋層包覆；兩個(gè)射頻電極之間為等離子體噴口；所述勻氣板位于所述介質(zhì)阻擋層上方；所述氣源提供的工作氣體通過由所述勻氣板構(gòu)成的收縮口，到達(dá)所述等離子體噴口，并在常壓下，電源接通后，在所述噴口處形成大面積的輝光等離子體，等離子體在氣流的攜帶下向外噴出。本實(shí)用新型避免了散射性放電，提高了放電效率，提高了氣流速率，增大等離子體噴出噴口的長度，降低了裝置對(duì)被處理材料的形狀等要求。

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