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一種薄膜厚度和折射率的光學測量方法

發(fā)明專利無效專利
  • 申請?zhí)枺?/span>
    CN200810047420.X
  • IPC分類號：G01B11/06;G01N21/45
  • 申請日期：
    2008-04-20
  • 申請人：
    華中科技大學
著錄項信息
專利名稱一種薄膜厚度和折射率的光學測量方法
申請?zhí)?/td>CN200810047420.X申請日期2008-04-20
法律狀態(tài)權利終止申報國家暫無
公開/公告日2008-09-10公開/公告號CN101261116
優(yōu)先權暫無優(yōu)先權號暫無
主分類號G01B11/06IPC分類號G;0;1;B;1;1;/;0;6;;;G;0;1;N;2;1;/;4;5查看分類表>
申請人華中科技大學申請人地址
湖北省武漢市洪山區(qū)珞喻路1037號 變更 專利地址、主體等相關變化，請及時變更，防止失效
權利人華中科技大學當前權利人華中科技大學
發(fā)明人駱清銘;王建崗;曾紹群;肖青
代理機構華中科技大學專利中心代理人曹葆青
摘要
本發(fā)明公開了一種薄膜厚度和折射率的光學測量方法。將寬帶光源出射的光通過干涉結構，產生干涉信號，再探測干涉信號的光譜信息，并將光譜信息進行傅立葉變換，即可得到產生干涉信號的二光路的光程差信息。在折射率已知的情況下，以同種方式在一個干涉臂中放置樣品后再測一次，比較這兩次光程差信息即可薄膜厚度。若折射率未知，需將薄膜旋轉一個角度，進行第三次測量來計算出獲得薄膜的折射率和厚度。本發(fā)明采用光學方法，對樣品是無損的，分辨率為微米量級，測量范圍可達到毫米量級。另外樣品不要求嚴格貼附在樣品臺上，同時信息處理方法簡單，對于透明或半透明薄膜可以方便實時地得到其厚度和折射率信息。

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