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一種基座改良式繼電器

實(shí)用新型專利有效專利
  • 申請?zhí)枺?/span>
    CN201821152712.5
  • IPC分類號：H01H50/02;H01H50/18;H01H50/54
  • 申請日期：
    2018-07-19
  • 申請人：
    三友聯(lián)眾集團(tuán)股份有限公司
著錄項(xiàng)信息
專利名稱一種基座改良式繼電器
申請?zhí)?/td>CN201821152712.5申請日期2018-07-19
法律狀態(tài)授權(quán)申報國家中國
公開/公告日公開/公告號
優(yōu)先權(quán)暫無優(yōu)先權(quán)號暫無
主分類號H01H50/02IPC分類號H;0;1;H;5;0;/;0;2;;;H;0;1;H;5;0;/;1;8;;;H;0;1;H;5;0;/;5;4查看分類表>
申請人三友聯(lián)眾集團(tuán)股份有限公司申請人地址
廣東省東莞市塘廈鎮(zhèn)莆心湖中心二路27號 變更 專利地址、主體等相關(guān)變化，請及時變更，防止失效
權(quán)利人三友聯(lián)眾集團(tuán)股份有限公司當(dāng)前權(quán)利人三友聯(lián)眾集團(tuán)股份有限公司
發(fā)明人杜欣洋;光強(qiáng)盛
代理機(jī)構(gòu)東莞市華南專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司代理人張明
摘要
本實(shí)用新型涉及繼電器技術(shù)領(lǐng)域，尤其是指一種基座改良式繼電器，其包括外殼及設(shè)置在外殼內(nèi)的基座，基座上設(shè)置有鐵芯、繞設(shè)于鐵芯外側(cè)的線圈、活動設(shè)置于基座的銜鐵組件，基座上設(shè)置有靜觸點(diǎn)及動觸點(diǎn)，動觸點(diǎn)借助銜鐵組件與靜觸點(diǎn)形成接觸配合，基座和外殼之間形成有用于容納靜觸點(diǎn)和動觸點(diǎn)的容納腔，容納腔的缺口貫穿基座的側(cè)壁，容納腔的一個側(cè)壁為用于提高滅弧能力的滅弧側(cè)壁，滅弧側(cè)壁相對的兩側(cè)分別設(shè)有彎折邊以形成開口朝向靜觸點(diǎn)的滅弧腔。當(dāng)靜觸點(diǎn)和動觸點(diǎn)回路通斷時，會產(chǎn)生電弧，電弧會向滅弧側(cè)壁方向運(yùn)動，當(dāng)電弧到達(dá)滅弧腔時，電弧會被拉長，從而增加了滅弧爬電距離，提高滅弧能力，延長繼電器的使用壽命，降低成本。

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