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有機膜涂覆之圖形化的工藝方法

發(fā)明專利無效專利
  • 申請?zhí)枺?/span>
    CN200910022457.1
  • IPC分類號:H01L51/56;B05D1/32
  • 申請日期:
    2009-05-12
  • 申請人:
    西安寶萊特光電科技有限公司
著錄項信息
專利名稱有機膜涂覆之圖形化的工藝方法
申請?zhí)?/td>CN200910022457.1申請日期2009-05-12
法律狀態(tài)撤回申報國家中國
公開/公告日2009-11-11公開/公告號CN101577316
優(yōu)先權暫無優(yōu)先權號暫無
主分類號H01L51/56IPC分類號H;0;1;L;5;1;/;5;6;;;B;0;5;D;1;/;3;2查看分類表>
申請人西安寶萊特光電科技有限公司申請人地址
陜西省西安市未央大學城陜西科技大學實驗樓2A一樓西段 變更 專利地址、主體等相關變化,請及時變更,防止失效
權利人西安寶萊特光電科技有限公司當前權利人西安寶萊特光電科技有限公司
發(fā)明人趙煒;馬介淵;付永山;吳靜;李翌輝
代理機構西安新思維專利商標事務所有限公司代理人李罡
摘要
本發(fā)明涉及有機膜涂覆之圖形化的工藝方法。現有技術中,聚合物PLED有機膜的制備采用轉涂涂覆或打印的方法;但除去有機膜涂層的方法,目前多采用激光燒蝕;通過特定波長的激光,將有機膜涂層燒蝕蒸發(fā),除去多余的有機膜,以實現有機膜涂層的圖形化;但是如果激光能量控制不當,有可能對膜底材料造成燒蝕損傷。本發(fā)明是以貼膜方式保護無需涂覆有機膜的區(qū)域,以實現有機膜涂覆之圖形化。其通過對無需涂膜區(qū)域的貼膜保護,有效克服現有涂膜方法的無選擇性和全覆蓋的缺點,避免使用激光燒蝕方法清除多余有機膜可能造成的對膜底材料的燒蝕損傷;另外,貼膜保護區(qū)域在貼膜被剝離之后基本無污染,對后續(xù)工藝沒有影響。

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