測.png/origine/a9485c85-19ac-4c1e-92b1-326e08a43366)
顆粒物濃度監(jiān)測儀外觀設計專利
申請?zhí)枺篊N202130587957.1
LOC分類號:10-05
IPC結構圖譜：
- C化學；冶金
- C2冶金
- C23對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕
- C23C對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆（擠壓法制造包覆金屬的產品入B21C23/22；通過將預先存在的薄層連接到制品上的方法用金屬進行鍍覆處理的見各有關位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金屬化入C03C；砂漿、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金屬化入C04B41/00；金屬的搪瓷或向金屬上鍍覆玻璃體層入c23D；用電解法或電泳法處理金屬表面或鍍覆金屬入C25D；單晶膜生長入C30B；紡織品的金屬化入D06M11/83；用局部金屬化法裝飾紡織品入D06Q1/04）〔4〕
- C23C14/00通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆 〔4，2006.01〕
- C23C14/22以鍍覆工藝為特征的〔4〕
- C23C14/24真空蒸發(fā)〔4〕
