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光刻系統(tǒng)中用于可變偏振控制的方法與設(shè)備

發(fā)明專利無效專利

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CN200510119369.5
IPC分類號：G03F7/20;G02B27/28;G02B5/30
申請日期：
2005-11-02
申請人：
ASML控股股份有限公司

基礎(chǔ)信息

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說明書

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法律信息

引證文獻

著錄項信息

專利名稱	光刻系統(tǒng)中用于可變偏振控制的方法與設(shè)備
申請?zhí)?/td>	CN200510119369.5	申請日期	2005-11-02
法律狀態(tài)	權(quán)利終止	申報國家	中國
公開/公告日	2006-06-07	公開/公告號	CN1782881
優(yōu)先權(quán)	暫無	優(yōu)先權(quán)號	暫無
主分類號	G03F7/20 ? IPC結(jié)構(gòu)圖譜： G 物理 G0 儀器 G03 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕 G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備（照相排版裝置入B41B；為攝影用的感光材料或處理入G03C；電記錄、感光層或處理入G03G） G03F7/00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設(shè)備（用于特殊工藝的光致抗蝕劑結(jié)構(gòu)見相關(guān)的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕 G03F7/20 曝光及其設(shè)備（復(fù)制用照相印制設(shè)備入G03B 27/00）〔4〕	IPC分類號	G;0;3;F;7;/;2;0;;;G;0;2;B;2;7;/;2;8;;;G;0;2;B;5;/;3;0查看分類表>
申請人	ASML控股股份有限公司	申請人地址	荷蘭費爾德霍芬變更專利地址、主體等相關(guān)變化，請及時變更，防止失效
權(quán)利人	ASML控股股份有限公司	當(dāng)前權(quán)利人	ASML控股股份有限公司
發(fā)明人	馬修·麥卡錫
代理機構(gòu)	中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司	代理人	王波波

摘要

一種用于光刻系統(tǒng)中的偏振控制裝置，用以選擇地偏振光于水平、垂直及/或圓形指向。一對相對可旋轉(zhuǎn)的四分之一波片移動以提供想要的偏振。當(dāng)該對四分之一波片呈相對45度角時，偏振為圓形。當(dāng)該對四分之一波片均為零度或45度時，所得的偏振為垂直或水平。偏振基于予以投影的圖像的指向加以選擇。水平偏振較佳用于具有強水平指向的圖像，垂直偏振系被選擇用于具有強垂直指向的圖像。當(dāng)圖像沒有強的水平或垂直指向時，選擇圓形指向。

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