著錄項信息
專利名稱 | 抗菌防電磁輻射真絲絨毯的制作方法 |
申請?zhí)?/td> | CN201310010009.6 | 申請日期 | 2013-01-11 |
法律狀態(tài) | 權利終止 | 申報國家 | 中國 |
公開/公告日 | 2013-05-08 | 公開/公告號 | CN103088540A |
優(yōu)先權 | 暫無 | 優(yōu)先權號 | 暫無 |
主分類號 | D04B21/04 | IPC分類號 | D;0;4;B;2;1;/;0;4;;;D;0;6;B;3;/;1;8;;;D;0;6;M;1;5;/;6;4;3查看分類表>
|
申請人 | 常熟市眾望經緯編織造有限公司 | 申請人地址 | 江蘇省蘇州市常熟市梅李鎮(zhèn)珍門工業(yè)園區(qū)
變更
專利地址、主體等相關變化,請及時變更,防止失效 |
權利人 | 常熟市眾望經緯編織造有限公司 | 當前權利人 | 常熟市眾望經緯編織造有限公司 |
發(fā)明人 | 嚴雪峰;徐建平;姚理榮;施潔;張麗哲 |
代理機構 | 常熟市常新專利商標事務所 | 代理人 | 朱偉軍 |
摘要
一種抗菌防電磁輻射真絲絨毯及其制作方法,屬于天然纖維絨面織物技術領域。包括面絲組織和底絲組織,面絲組織占70-80%,底絲組織占20-30%,面絲組織的原料采用脫膠及絡合銀處理的平均纖度為13至15D或20至22D并且根數(shù)為2-50根的真絲單絲以捻度為100-2000捻/米進行絡并捻的全脫膠絡合銀絡并捻的面絲,底絲組織的原料采用脫膠及絡合銀處理的平均纖度為20至22D并且根數(shù)為2-10根的真絲單絲以捻度為100-2000捻/米進行絡并捻的全脫膠絡合銀絡并捻的底絲??咕头离姶泡椛湫Ч?;不會對人體產生過敏;吸濕排汗功能佳;體現(xiàn)柔軟、蓬松、保暖和透氣等效果,使絡合銀的結構更加均勻和緊密;避免對真絲纖維造成損傷以及保證質量穩(wěn)定。
1.一種抗菌防電磁輻射真絲絨毯的制作方法,其特征在于包括以下步驟:
A)選料,選取面絲組織和底絲組織的原料,其中:面絲組織的原料選用平均纖度為13至15D或20至22D的真絲,而底絲組織的原料選用平均纖度為20至22D的真絲,得到面絲組織的原料和底絲組織的原料,面絲組織的原料在真絲絨毯中所占的質量百分比為
70-80%,而底絲組織的原料在真絲絨毯中所占的質量百分比為20-30%;
B)脫膠處理,將由步驟A)得到的面絲組織的原料以及底絲組織的原料分別投入盛有脫膠劑的容器中在常溫下浸泡,并且控制浸泡時間,浸泡結束后常溫水洗并甩干,并且控制甩干后的含水率,得到脫膠的面絲組織原料和脫膠的底絲組織原料;
C)絡合銀處理,將由步驟B)得到的脫膠的面絲組織原料和脫膠的底絲組織原料先進行真絲纖維微溶處理,而后水洗并甩干,再分別投入盛有含多氨基聚合物的硝酸銀溶液中浸泡并且控制浸泡時間,浸泡結束后水洗,并且在水洗后烘干,得到絡合銀處理的面絲組織原料和絡合銀處理的底絲組織原料;
D)絡并捻,將由步驟C)得到的絡合銀處理的平均纖度為13至15D或20至22D并且根數(shù)為2-50根的真絲以捻度為100-2000捻/米進行絡并捻,同時將絡合銀處理的平均纖度為20至22D并且根數(shù)為2-10根的真絲以捻度為100-2000捻/米進行絡并捻,得到全脫膠絡合銀絡并捻的面絲和全脫膠絡合銀絡并捻的底絲;
E)整經和織造,由整經機對由步驟D)得到的全脫膠絡合銀絡并捻的面絲和全脫膠絡合銀絡并捻的底絲進行整經,整經后進行經編織造,得到抗菌防電磁輻射真絲絨毯坯布;
F)剖幅、印花和后整理,對由步驟E)得到的抗菌防電磁輻射真絲絨毯坯布剖幅,剖幅后進行印花前處理,在印花前處理后進行印花,印花后進行水洗和烘干,而后進行后整理,得到抗菌防電磁輻射真絲絨毯;所述的真絲纖維微溶處理是指將所述脫膠的面絲組織原料和脫膠的底絲組織原料分別投入質量百分比濃度為0.1-20%的氯化鈣水溶液中進行纖維微溶處理,處理時間為5-100min,所述的多氨基聚合物為丙烯酸丁酯與乙二胺的聚合物,該聚合物的分子量為1000-85000,其中,多氨基聚合物與硝酸銀的摩爾比為2-8∶1。
2.根據(jù)權利要求1所述的抗菌防電磁輻射真絲絨毯的制作方法,其特征在于步驟B)中所述的脫膠劑為質量百分比濃度為0.1-10%的脂肪醇聚氧乙烯醚水溶液。
3.根據(jù)權利要求1所述的抗菌防電磁輻射真絲絨毯的制作方法,其特征在于步驟B)中所述的控制浸泡時間是將浸泡時間控制為25-35min;所述的控制甩干后的含水率是指將甩干后的脫膠的面絲組織原料和脫膠的底絲組織原料的含水率均控制為15-30%。
4.根據(jù)權利要求1所述的抗菌防電磁輻射真絲絨毯的制作方法,其特征在于步驟C)中所述的控制浸泡時間是將浸泡時間控制為10-200min;所述烘干的溫度為75-85℃,烘干時間60-120min。
5.根據(jù)權利要求1所述的抗菌防電磁輻射真絲絨毯的制作方法,其特征在于步驟E)中所述的整經機整經采用轉速為300-500n/min的低車速整經,并且采用張力圈分段控制,所述的張力圈分段控制的張力為:前段15cN,中段13cN,后段11cN。
6.根據(jù)權利要求1所述的抗菌防電磁輻射真絲絨毯的制作方法,其特征在于步驟F)中所述的印花前處理是指將剖幅的抗菌防電磁輻射真絲絨毯坯布投入浸漬液中浸漬,浸漬次數(shù)為兩次,每一次浸漬后進行軋液,軋余率為70-80%,在第二次軋液后進行烘干,烘干溫度為75-85℃,烘干時間為90-180min,所述的浸漬液為羥甲基纖維素、聚乙二醇和水的混合物,其中:羥甲基纖維素的質量百分數(shù)為0.1-5%,而聚乙二醇的質量百分數(shù)為0.1-8%,其余為水,所述聚乙二醇的分子量為10000-50000。
7.根據(jù)權利要求1所述的抗菌防電磁輻射真絲絨毯的制作方法,其特征在于步驟F)中所述的后整理包括柔軟處理、脫水烘干、搖粒、燙光和定型,其中,柔軟處理采用有機硅柔軟劑,有機硅柔軟劑的使用量為10-50g/L。
抗菌防電磁輻射真絲絨毯的制作方法 \n技術領域\n[0001] 本發(fā)明屬于天然纖維絨面織物技術領域,具體涉及一種抗菌防電磁輻射真絲絨毯,并且還涉及其制作方法。 \n背景技術\n[0002] 隨著社會發(fā)展和科技進步,電子電器產品的使用越來越廣泛,電子電器產品一方面給人們生活帶來了極大的便利,但另一方面也造成了電磁污染,并且電磁波污染已成為了繼空氣污染、水系污染和噪聲污染之后的第四大污染源。電磁波輻射達到一定程度后會對人體健康產生危害,對此在中國發(fā)明專利申請公開號CN1818175A(防輻射針織面料及生產方法)的說明書背景技術欄中已有系統(tǒng)的闡述。 \n[0003] 鑒于上述因素,開發(fā)防輻射面料對于保證生活安全和人體健康具有積極意義并且越來越受到紡織業(yè)界的重視。目前,應用于紡織面料中的電磁屏蔽材料基本上仍以導電金屬絲為主,這種紡織面料制成服飾后在貼身穿著時往往感覺生硬,并且重金屬與人體接觸存在過敏之虞。 \n[0004] 相對于前述使用導電金屬絲作為電磁屏蔽材料應用于織物而言,電磁屏蔽織物具有一定的優(yōu)勢,常見的電磁屏蔽織物主要但并不僅僅限于以下四種:一是涂層屏蔽織物,其是將金屬粉末、金屬氧化物或非金屬導電材料加入涂層劑中并且涂覆于織物表面,這種織物存在對電磁輻射屏蔽效果差、有失透氣性并且手感僵硬的欠缺;二是表面鍍金屬織物,其是在織物表面附著一層導電層,通過反射損耗達到對電磁波屏蔽的目的。又,將鋁箔或銅箔之類的金屬箔以膠粘復合方式結合于織物表面,這種防電磁輻射織物雖然具有制作方便的長處,但對織物的透氣性和柔軟性構成制約;三是導電纖維混紡織物,由導電纖維與普通纖維混紡,這種織物為了保障良好的防電磁輻射效果,因此導電纖維所占的比例較大,從而給梳理造成困難(例如在梳理過程中易打結)以及抗彎強度差;四是多離子電磁屏蔽織物,其是采用物理和化學工藝對金屬離子化處理,由于織物以吸收電磁波為主,因而可避免二次污染。但是,由于采用化學鍍、電鍍工藝制備的電磁屏蔽織物材料多以反射損耗為主,因此金屬鍍工藝的穩(wěn)定性較差并且污染嚴重。 \n[0005] 上面提及的CN1818175A推薦的“防輻射針織面料”是采用含有金屬短纖維的紗線編織而成,而含有金屬短纖維的紗線由按重量百分比計的超低碳不銹鋼短纖維10-30%、直徑 4-6μm的無氧銅短纖維5-10%和編織材料短纖維60-85%構成,該專利申請方案屬于前述四種電磁屏蔽織物中的第三種,即存在混棉梳理困難以及抗彎強度差的欠缺;又,CN101078180A提供有“一種織物及服裝的抗菌防輻射處理方法”,該專利申請方案先是制備混合液,再將織物或服裝投入混合液中浸泡20-60min,而后在80-110℃下蒸汽熏蒸\n15-20min,最后洗滌、脫水和烘干,具體可參見該專利申請的說明書第2頁第1至第9行,由于該專利申請方案僅僅屬于對面料和服裝的防電磁輻射后處理范疇,因而對于織造抗菌防電磁輻射面料不具有可借鑒的技術啟示;還,CN102454002A披露有“蠶絲氨綸防輻射面料”,其是由經線(經紗)和緯線(緯紗)間隔數(shù)根蠶絲包覆氨綸紗加一根蠶絲包覆金屬離子纖維的紗線構成。這種織物的金屬離子纖維與其它纖維之間的結合力較弱,影響使用的耐久性。 \n[0006] 此外,已有技術在制作防輻射面料的過程中,普遍存在以下兩個方面的不足:一是金屬電鍍工藝穩(wěn)定性差并且污染嚴重;二是在纖維或織物表面通過還原法原位生成金屬粒子達到抗菌防輻射功能時,金屬粒子與纖維或織物間的結合力脆弱,影響耐久性。 [0007] 以及,隨著人們對服飾和寢裝用品的綠色環(huán)保意識的增強,因此作為電磁防輻射面料,除了要求具有防止電磁波輻射的良好功能外,還期望具有天然環(huán)保、抗菌健康保健和親膚等的效果;尤其,作為絨毯還需體現(xiàn)具有良好的質地柔軟、豐盈保暖、富有彈性和吸濕透氣等效果。然而在并不限于前述例舉的專利文獻中均未見諸得以滿足這種要求的技術信息。為此,本申請人作了積極而有益的嘗試,終于形成了下面將要介紹的技術方案。 發(fā)明內容\n[0008] 本發(fā)明的首要任務在于提供一種有助于體現(xiàn)對電磁波具有良好的防輻射效果而藉以避免電磁污染影響、有利于避免對人體產生過敏并且具有對肌膚良好的保健效果而藉以體現(xiàn)綠色環(huán)保和有益于體現(xiàn)優(yōu)異的柔軟性、彈性、保暖性以及吸濕透氣性而藉以提升檔次的抗菌防電磁輻射真絲絨毯。 \n[0009] 本發(fā)明的另一任務在于提供一種抗菌防電磁輻射真絲絨毯的制作方法,該方法能保障所述抗菌防電磁輻射真絲絨毯的所述技術效果的全面體現(xiàn)。 \n[0010] 本發(fā)明的首要任務是這樣來完成的,一種抗菌防電磁輻射真絲絨毯,包括面絲組織和底絲組織,所述面絲組織在真絲絨毯中所占的質量百分比為70-80%,所述底絲組織在真絲絨毯中所占的質量百分比為20-30%,所述面絲組織的原料采用脫膠處理以及絡合銀處理的平均纖度為13至15D或20至22D并且根數(shù)為2-50根的真絲單絲以捻度為100-2000捻/米進行絡并捻的全脫膠絡合銀絡并捻的面絲,所述的底絲組織的原料采用脫膠處理以及絡 合銀處理的平均纖度為20至22D并且根數(shù)為2-10根的真絲單絲以捻度為100-2000捻/米進行絡并捻的全脫膠絡合銀絡并捻的底絲。 \n[0011] 本發(fā)明的另一任務是這樣來完成的,一種抗菌防電磁輻射真絲絨毯的制作方法,包括以下步驟: \n[0012] A)選料,選取面絲組織和底絲組織的原料,其中:面絲組織的原料選用平均纖度為13至15D或20至22D的真絲,而底絲組織的原料選用平均纖度為20至22D的真絲,得到面絲組織的原料和底絲組織的原料,面絲組織的原料在真絲絨毯中所占的質量百分比為\n70-80%,而底絲組織的原料在真絲絨毯中所占的質量百分比為20-30%; \n[0013] B)脫膠處理,將由步驟A)得到的面絲組織的原料以及底絲組織的原料分別投入盛有脫膠劑的容器中在常溫下浸泡,并且控制浸泡時間,浸泡結束后常溫水洗并甩干,并且控制甩干后的含水率,得到脫膠的面絲組織原料和脫膠的底絲組織原料; \n[0014] C)絡合銀處理,將由步驟B)得到的脫膠的面絲組織原料和脫膠的底絲組織原料先進行真絲纖維微溶處理,而后水洗并甩干,再分別投入盛有含多氨基聚合物的硝酸銀溶液中浸泡并且控制浸泡時間,浸泡結束后水洗,并且在水洗后烘干,得到絡合銀處理的面絲組織原料和絡合銀處理的底絲組織原料; \n[0015] D)絡并捻,將由步驟C)得到的絡合銀處理的平均纖度為13至15D或20至22D并且根數(shù)為2-50根的真絲以捻度為100-2000捻/米進行絡并捻,同時將絡合銀處理的平均纖度為20至22D并且根數(shù)為2-10根的真絲以捻度為100-2000捻/米進行絡并捻,得到全脫膠絡合銀絡并捻的面絲和全脫膠絡合銀絡并捻的底絲; \n[0016] E)整經和織造,由整經機對由步驟D)得到的全脫膠絡合銀絡并捻的面絲和全脫膠絡合銀絡并捻的底絲進行整經,整經后進行經編織造,得到抗菌防電磁輻射真絲絨毯坯布; \n[0017] F)剖幅、印花和后整理,對由步驟E)得到的抗菌防電磁輻射真絲絨毯坯布剖幅,剖幅后進行印花前處理,在印花前處理后進行印花,印花后進行水洗和烘干,而后進行后整理,得到抗菌防電磁輻射真絲絨毯。 \n[0018] 在本發(fā)明的一個具體的實施例中,步驟B)中所述的脫膠劑為質量百分比濃度為\n0.1-10%的脂肪醇聚氧乙烯醚水溶液。 \n[0019] 在本發(fā)明的另一個具體的實施例中,步驟B)中所述的控制浸泡時間是將浸泡時間控制為25-35min;所述的控制甩干后的含水率是指將甩干后的脫膠的面絲組織原料和脫膠的底絲組織原料的含水率均控制為15-30%。 \n[0020] 在本發(fā)明的又一個具體的實施例中,步驟C)中所述的真絲纖維微溶處理是指將所述 脫膠的面絲組織原料和脫膠的底絲組織原料分別投入質量百分比濃度為0.1-20%的氯化鈣水溶液中進行纖維微溶處理,處理時間為5-100min,所述的多氨基聚合物為丙烯酸丁酯與乙二胺的聚合物,該聚合物的分子量為1000-85000,其中,多氨基聚合物與硝酸銀的摩爾比為2-8∶1。 \n[0021] 在本發(fā)明的再一個具體的實施例中,步驟C)中所述的控制浸泡時間是將浸泡時間控制為10-200min;所述烘干的溫度為75-85℃,烘干時間60-120min。 \n[0022] 在本發(fā)明的還有一個具體的實施例中,步驟E)中所述的整經機整經采用轉速為\n300-500n/min的低車速整經,并且采用張力圈分段控制,所述的張力圈分段控制的張力為:\n前段15cN,中段13cN,后段11cN。 \n[0023] 在本發(fā)明的更而一個具體的實施例中,步驟E)中所述的經編織造為采用五把梳櫛的GE-288型雙針床經編機織造:GB1、GB2、GB5和GB6編織底絲組織和面絲組織;而GB3通過舌針來回墊付在底層形成里組織,其中,GB1、GB2、GB5和GB6為底絲滿穿,GB3一空一穿,毛高為1-10mm。 \n[0024] 在本發(fā)明的進而一個具體的實施例中,步驟F)中所述的印花前處理是指將剖幅的抗菌防電磁輻射真絲絨毯坯布投入浸漬液中浸漬,浸漬次數(shù)為兩次,每一次浸漬后進行軋液,軋余率為70-80%,在第二次軋液后進行烘干,烘干溫度為75-85℃,烘干時間為\n90-180min,所述的浸漬液為羥甲基纖維素、聚乙二醇和水的混合物,其中:羥甲基纖維素的質量百分數(shù)為0.1-5%,而聚乙二醇的質量百分數(shù)為0.1-8%,其余為水,所述聚乙二醇的分子量為10000-50000。 \n[0025] 在本發(fā)明的又更而一個具體的實施例中,步驟F)中所述的后整理包括柔軟處理、脫水烘干、搖粒、燙光和定型,其中,柔軟處理采用有機硅柔軟劑,有機硅柔軟劑的使用量為\n10-50g/L。 \n[0026] 本發(fā)明提供的技術方案由于對面絲組織和底絲組織的原料采用了脫膠及絡合銀處理,并且絡合物上的活性基團與真絲纖維蛋白大分子之間可形成良好的穩(wěn)定結構,因而能獲得理想的抗菌和防電磁輻射效果;由于原料采用了全真絲并經脫膠及絡合銀處理,因而不會對人體產生過敏并且還可對肌膚產生理想的保健作用,以體現(xiàn)綠色環(huán)保;由于真絲屬于天然纖維,氨基酸大分子上擁有大量的親水性基團,因而具有極致的吸濕排汗功能;由于面、底絲組織的原料均為全脫膠絡合銀絡并捻的真絲,因而能更加理想地體現(xiàn)柔軟、蓬松、保暖和透氣等效果,提供的制作方法由于對真絲纖維進行微溶處理,因而可在纖維表面形成細密的微孔結構,從而使絡合銀的結構更加均勻和緊密;由于面、底絲組織均為真絲,因 而在熱濕定形、印花和后整理等工序中工藝穩(wěn)定,避免了因面、底絲組織材料相異而致質量有失穩(wěn)定的缺陷;由于無需經拉絨工序,因而可避免對真絲纖維造成損傷。 [0027] 實施例1: \n[0028] A)選料,選取面絲組織和底絲組織的原料,其中:面絲組織的原料選用平均纖度為\n13-15D(“D”表示旦尼爾,以下同)的真絲(真絲指桑蠶絲,以下同),而底絲組織的原料選用平均纖度為20-22D(“D”表示旦尼爾,以下同)的真絲,得到面絲組織的原料和底絲組織的原料,面絲組織的原料在真絲絨毯中所占的質量百分比為75%,而底絲組織的原料在真絲絨毯中所占的質量百分比為25%; \n[0029] B)脫膠處理,將由步驟A)得到的面絲組織的原料以及底絲組織的原料分別投入盛有脫膠劑的容器中在常溫下浸泡25min,浸泡結束后進行常溫水洗,常溫水洗后甩干至含水率30%,得到脫膠的面絲組織原料和脫膠的底絲組織原料,本步驟中所述的脫膠劑為質量百分比濃度為5%的脂肪醇聚氧乙烯醚水溶液; \n[0030] C)絡合銀處理,將由步驟B)得到的脫膠的面絲組織原料和脫膠的底絲組織原料先進行真絲纖維微溶處理,真絲纖維微溶處理后水洗并甩干,再分別投入盛有含多氨基聚合物的硝酸銀溶液中浸泡100min,浸泡結束后水洗,水洗后在75℃下烘干120min,得到絡合銀處理的面絲組織原料(即絡合銀處理的面絲真絲)和絡合銀處理的底絲組織原料(即絡合銀處理的底絲真絲),本步驟中所述的微溶處理是指:將脫膠的面絲組織原料和脫膠的底絲組織原料分開投入質量百分比濃度為20%的氯化鈣水溶液中進行纖維微溶,時間為50min,前述的多氨基聚合物為丙烯酸丁酯與乙二胺的聚合物,該聚合物的分子量為1000-85000,其中:多氨基聚合物與硝酸銀的mol比(摩爾比)為5∶1,多氨基聚合物優(yōu)選而非限于地使用由中國上海市雄衛(wèi)紡織助劑有限公司生產的并且在本申請?zhí)岢鲆郧霸谑袌鰪V為銷售的牌號為SRW-F-Ⅱ纖維處理劑,也可采用由中國江蘇省江陰市摩爾化工新材料有限公司生產銷售的并且在本申請?zhí)岢鲆郧霸谑袌鰪V泛銷售的牌號為MOL-J多氨基聚合物硅微乳液; [0031] D)絡并捻,將由步驟C)得到的絡合銀處理的平均纖度為13-15D并且根數(shù)為20根面絲真絲以捻度為300捻/米進行絡并捻,同時將同樣由步驟C)得到的絡合銀處理的平均纖度為20-22D并且根數(shù)為2根底絲真絲以捻度為500捻/米進行絡并捻,得到全脫膠絡合銀絡并捻的面絲和全脫膠絡合銀絡并捻的底絲; \n[0032] E)整經和織造,由整經機對由步驟D)得到的全脫膠絡合銀絡并捻的面絲和全脫膠絡合銀絡并捻的底絲分別(分開)進行整經,整經機采用500n/min的低車速即低機速整經, 并且采用張力圈分段控制,張力圈分段控制的張力為:前段15cN,中段13cN,后段11cN,在整經后付諸具有五把梳櫛的GE-288型雙針床經編機織造:GB1、GB2、GB5和GB6編織底絲組織和面絲組織,而GB3通過舌針來回墊付在底層里組織,其中,GB1、GB2、GB5和GB6為底絲滿穿,GB3一空一穿,得到毛高為5mm的抗菌防電磁輻射真絲絨毯坯布; \n[0033] F)剖幅、印花和后整理,對由步驟E)得到的抗菌防電磁輻射真絲絨毯坯布剖幅,在剖幅后進行印花前處理,印花前處理后進行印花,印花前處理的具體工藝為:將剖幅的抗菌防電磁輻射真絲絨毯坯布投入浸漬液中浸漬,浸漬次數(shù)為兩次,每一次浸漬后進行軋液,軋余率為70-80%,第二次軋液后在75℃的溫度下烘干180min,前述的浸漬液為羥甲基纖維素、聚乙二醇和水的混合物,其中:羥甲基纖維素的質量百分比為3%,聚乙二醇的質量百分比為0.2%,水的質量百分比為96.8%,聚乙二醇的分子量為10000-50000,在前述的印花前處理工序完成后即在烘干后印花,印花后進行后整理,后整理依次包括柔軟處理、脫水、烘干、搖粒、燙光和定型,得到抗菌防電磁輻射真絲絨毯,本步驟中所述的柔軟處理采用有機硅柔軟劑,該有機硅柔軟劑的使用量為50g/L(一升水中加入50g有機硅柔軟劑)。 [0034] 實施例2: \n[0035] 僅將步驟A)中的面絲組織的原料改用平均纖度為20-22D的真絲,并且將面絲組織的原料在真絲絨毯中所占的質量百分比改為80%,將底絲組織的原料在真絲絨毯中所占的質量百分比改為20%;將步驟B)中的浸泡時間改為35min,將甩干至含水率改為15%,并且將脫膠劑即脂肪醇聚氧乙烯醚水溶液的質量百分比濃度改為0.1%;將步驟C)中含多氨基聚合物的硝酸銀溶液中浸泡的時間改為10min,將水洗后的烘干溫度和烘干時間分別改為85℃和60min,將氯化鈣水溶液的質量百分比濃度改為8%,將纖維微溶時間改為100min,并且將多氨基聚合物與硝酸銀的mol比改為2∶1;將步驟D)中的平均纖度為20-22D的面絲真絲的根數(shù)改為50根,捻度改為1900捻/米,將平均纖度為20-20D的底絲真絲的根數(shù)改為10根,并且捻度改為2000捻/米;將步驟E)中的整經機的轉速改為300n/min,毛高改為10mm;將步驟F)中的第二次軋液后的烘干溫度和烘干時間分別改為85℃和90min,將羥基纖維素的質量百分比改為5%,將聚乙二醇的質量百分比改為8%,將水的質量百分比改為87%,將有機硅柔軟劑的使用量改為10g/L。其余均同對實施例1的描述。 [0036] 實施例3: \n[0037] 僅將步驟A)中的面絲組織的原料和底絲組織的原料在真絲絨毯中所占的質量百分比分別改為70%和30%;將步驟B)中的浸泡時間改為30min,將脫膠劑即脂肪醇聚氧乙烯醚 水溶液的質量百分比濃度改為10%,將甩干后的含水率改為23%;將步驟C)中的含多氨基聚合物的硝酸銀溶液中浸泡的時間改為200min,將水洗后的烘干溫度和烘干時間分別改為80℃和90min,將氯化鈣溶液的質量百分比濃度改為0.1%,將纖維微溶時間改為5min,并且將多氨基聚合物與硝酸銀的mol比改為8∶1;將步驟D)中的面絲真絲的根數(shù)改為4根,捻度改為100捻/米,將底絲真絲的根數(shù)改為6根并且捻度改為110捻/米;將步驟E)中的整經機的轉速改為400n/min,毛高改為1.5mm(同對實施例2的說明);將步驟F)中的在第二次軋液后的烘干溫度和烘干時間分別改為80℃和135min,將羥基纖維素的質量百分比改為0.1%,聚乙二醇的質量百分比改為4.3%,將水的質量百分比改為95.6%,將有機硅柔軟劑的使用量改為30g/L。其余均同對實施例1的描述。 \n[0038] 由上述實施例1至3得到的抗菌防電磁輻射真絲絨毯(取小樣)與公知的滌綸絨毯進行對比測試,其指標如下表所示: \n[0039]
法律信息
- 2018-12-28
未繳年費專利權終止
IPC(主分類): D04B 21/04
專利號: ZL 201310010009.6
申請日: 2013.01.11
授權公告日: 2014.02.05
- 2014-02-05
- 2013-06-12
實質審查的生效
IPC(主分類): D04B 21/04
專利申請?zhí)? 201310010009.6
申請日: 2013.01.11
- 2013-05-08
引用專利(該專利引用了哪些專利)
序號 | 公開(公告)號 | 公開(公告)日 | 申請日 | 專利名稱 | 申請人 |
1
| |
2007-11-28
|
2006-05-23
| | |
2
| |
2009-10-28
|
2009-05-18
| | |
3
| |
1993-07-21
|
1992-01-15
| | |
4
| |
2012-10-31
|
2012-08-01
| | |
被引用專利(該專利被哪些專利引用)
序號 | 公開(公告)號 | 公開(公告)日 | 申請日 | 專利名稱 | 申請人 | 該專利沒有被任何外部專利所引用! |