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一種磁共振成像系統(tǒng)中減小梯度線圈渦流的方法

發(fā)明專利無效專利
  • 申請?zhí)枺?/span>
    CN200510029810.0
  • IPC分類號：A61B5/055;G01R33/341;G01R33/385
  • 申請日期：
    2005-09-20
  • 申請人：
    華東師范大學(xué)
著錄項信息
專利名稱一種磁共振成像系統(tǒng)中減小梯度線圈渦流的方法
申請?zhí)?/td>CN200510029810.0申請日期2005-09-20
法律狀態(tài)權(quán)利終止申報國家中國
公開/公告日2006-03-08公開/公告號CN1742674
優(yōu)先權(quán)暫無優(yōu)先權(quán)號暫無
主分類號A61B5/055IPC分類號A;6;1;B;5;/;0;5;5;;;G;0;1;R;3;3;/;3;4;1;;;G;0;1;R;3;3;/;3;8;5查看分類表>
申請人華東師范大學(xué)申請人地址
上海市普陀區(qū)中山北路3663號 變更 專利地址、主體等相關(guān)變化，請及時變更，防止失效
權(quán)利人華東師范大學(xué)當(dāng)前權(quán)利人華東師范大學(xué)
發(fā)明人王鶴;寧瑞鵬;李鯁穎
代理機(jī)構(gòu)上海藍(lán)迪專利事務(wù)所代理人徐筱梅
摘要
本發(fā)明公開了一種磁共振成像系統(tǒng)中減小梯度線圈渦流的方法，它是通過減小Z梯度線圈的直徑來減小梯度線圈產(chǎn)生的渦流并通過改變Z梯度線圈繞線方式保證成像空間不變，具體要求是：Z梯度線圈的直徑至少縮減到抗渦流板直徑的0.77倍，且又要大于抗渦流板直徑的0.65倍；Z梯度線圈繞線方式是：線圈繞線8-16圈，分內(nèi)圈和外圈，內(nèi)圈繞一圈，外圈最里圈與內(nèi)圈之間的間隔較大。本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于有效減小梯度線圈產(chǎn)生的渦流，成像系統(tǒng)空間定位更加精確。克服上升、下降沿拖長的問題，縮短切換時間，提高分辨率和信噪比，獲得好的特征對比度。不需要加屏蔽線圈，節(jié)省磁極空間，因此降低對主磁體的要求，從而降低成本。

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